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镀膜玻璃放电纹如何解决？
可采用抛光粉进行抛光处理，再进行镀膜，可以提高玻璃与膜层的结合力从而减少斑纹的产生。
LOW玻璃膜层出现放电纹的原因是阴极放电和基片表面放电，基片表面放电是等离子体中的大量电子游离到基片表面聚集放电，而造成大量电子游离到基片表面的原因则是“阳极消失”，这种现象主要是平面阴极溅射时经常发生，旋转阴极很少发生这种现象。
类金刚石镀膜是什么？
类金刚石镀膜是指oDLC镀膜技术，可以在电子产品屏幕表面镀上一层光学级类金刚石的薄膜，使之屏幕的硬度得到显著提升，在实际的操作测试中，其表面硬度及耐刮性与蓝宝石表面硬度与耐刮性相媲美，利用这种技术，使之获得采用oDLC镀膜技术处理工艺的手机表面提供了强大的安全保障。而我使用的这款乐视2手机，就是经过oDLC镀膜技术工艺的处理，其屏幕表面的强硬度与耐刮性也随之得到显著的提升。
蓝宝石镀膜原理？
蓝宝石作为一种新兴材料，具有很好的光学和力学性能，因此，在高科技光电探测领域中，蓝宝石作为常用的窗口使用。大部分光窗有气密性的要求，因此在蓝宝石与金属焊接之前，对蓝宝石的镀膜处理，就有很高的要求。
蓝宝石的镀膜工艺，常用的有气相沉积法、电子束蒸发法、磁控溅射法等。
镜头的镜片是如何镀膜的？
光学镀膜由薄膜层组合而成，它会产生干涉效应来改变光学系统的透射或反射性能。光学镀膜的性能取决于层数、每层的厚度和不同层之间的折射率。精密光学中常见镀膜类型有：增透膜(AR)、高反射（镜）膜、分光镜膜和滤光片膜（短波通，长波通，陷波等）。照相机镜头所用到的增透膜适用于大多数折射光学件，可以增大光通量并减少不必要的反射。
工艺上主要有两种：
蒸发沉积
在蒸发沉积时，真空室中的源材料受到加热或电子束轰击而蒸发。蒸气冷凝在光学表面上。在蒸发期间，通过精确控制加热，真空压力，基板定位和旋转可以制造出具有特定厚度的均匀光学镀膜。蒸发具有相对温和的性质，会使镀膜变得松散或多孔。这种松散的镀膜具有吸水性，改变了膜层的有效折射率，将导致性能降低。通过离子束辅助沉积技术可以增强蒸发镀膜，在该过程中，离子束会对准基片表面。这增加了源材料相对光学表面的粘附性，产生更多应力，使得镀膜更致密，更耐久。
离子束溅射（IBS）
在离子束溅射（IBS）时，高能电场可以加速离子束。这种加速度使得离子具有显着的动能。在与源材料撞击时，离子束会将靶材的原子“溅射”出来。这些被溅射出来的靶材离子（原子受电离区影响变为离子）也具有动能，会在与光学表面接触时产生致密的膜。IBS是一种精确的，重复性强的技术。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。
现在大部分都是后者。其他工艺就不一一列举了。
上图，清洁后准备在镀膜机中准备进行镀膜的尼康镜片
光学镀膜所涉及的制造工艺是劳动和资本密集型的，并且十分耗时。影响镀膜成本的因素包括被镀膜的光学件的数量，类型，尺寸，需要镀多少层膜以及光学件上需要镀膜的表面数量。镀膜采用的沉积工艺对镀膜成本以及镀膜性能方面的影响也十分巨大。此外，在这之前还需要做大量的准备工作，以确保每个镀膜光学件的质量都能达到最高水平。在镀膜之前，清洁和准备光学件是非常重要的。光学元件必须具有适合镀膜粘附的清洁表面。一旦镀上膜，基片上未预先除去的污渍就很难被去除了。
povcd镀膜工艺是什么专业？
POCVD（Plasma-enhancedChemicalVaporDeposition）镀膜工艺是一种半导体材料制备技术，主要应用于半导体、光电子和微电子领域。POCVD镀膜工艺使用高频电场和低压等离子体产生化学反应，将气态前驱体沉积在基片表面，从而形成所需的功能薄膜。
POCVD工艺可制备的薄膜种类很多，包括硅、氮、碳、氧等元素的化合物和合金材料。POCVD镀膜工艺需要涉及到材料科学、化学工程、物理学、机械工程等多个专业领域。
